【摘 要】
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光致抗蚀剂掩膜技术，在混合集成电路中用来进行选择性电镀，俗称带胶电镀。这种方法早已形成，但因在使用中存在着一些问题，尚未得到广泛采用。该文阐明了带胶电镀的实用效果，给出了
【出 处】
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全国首届MIC CAD及MIC工艺学术会
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光致抗蚀剂掩膜技术，在混合集成电路中用来进行选择性电镀，俗称带胶电镀。这种方法早已形成，但因在使用中存在着一些问题，尚未得到广泛采用。该文阐明了带胶电镀的实用效果，给出了工艺步骤条件，并就工艺中遇到的问题进行探索性的分析。提出了一些解决办法。掌握带胶电镀技术。是简化MIC工艺流程的一种方法，同时在薄膜技术中也具有较广泛的应用价值。（本刊录）
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