【摘 要】
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第三代多功能等离子体浸没离子注入(PIII)装置已于2000年6月在成都,西南交通大学正式验收,并被用于材料表面改性的研究与开发工作.与第一代多功能PIII装置不同的是该装置更强调用于医药生物材料的处理,因而该装置具有以下特色:(1)它的强流脉冲阴极弧金属等离子体源既有镀膜功能,同时也有气体与金属离子注入的功能,以形成有足够膜厚的,强膜基结合力的,表面特性很好的改性层;(2)它的脉冲高压电源不强调
【机 构】
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哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室(黑龙江哈尔滨) 香港城市大学等离子体实验室(香港九龙
【出 处】
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2001全国荷电粒子源粒子束学术会议
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第三代多功能等离子体浸没离子注入(PIII)装置已于2000年6月在成都,西南交通大学正式验收,并被用于材料表面改性的研究与开发工作.与第一代多功能PIII装置不同的是该装置更强调用于医药生物材料的处理,因而该装置具有以下特色:(1)它的强流脉冲阴极弧金属等离子体源既有镀膜功能,同时也有气体与金属离子注入的功能,以形成有足够膜厚的,强膜基结合力的,表面特性很好的改性层;(2)它的脉冲高压电源不强调很高的输出电压,而强调大的输出电流,以满足大注入面积对大注入电流的需要;(3)高的注入剂量均匀性,以使被处理的零件有高的表面改性质量.这就要求采取有效的注入剂量均匀性改善措施;(4)该装置能执行离子注入,溅射沉积与镀膜相结合的多种综合性表面改性工艺,其中包括有反应气体参加的多元素金属等离子体浸没离子注入与沉积(PIIID)工艺.一年来,该装置已被成功地用于医药生物材料的处理,金属及其合金的表面强化处理研究.本文描述了它的主要设计原则,主要部件的特性,及近期研究工作成果.
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