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用于制作光波导器件的含氟聚碳酸酯类负性光刻胶的合成与表征
用于制作光波导器件的含氟聚碳酸酯类负性光刻胶的合成与表征
来源 :2015年全国高分子学术论文报告会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xinfan413
【摘 要】
:
有机聚合物材料由于其具有较高的电光耦合系数、良好的热力学性能、响应时间短、易加工、结构可设计及制作费用低等无机晶体无法比拟的优点,在光通讯、调制、传输器件等方
【作 者】
:
蔡珍珍
史作森
崔占臣
【机 构】
:
吉林大学超分子结构与材料国家重点实验室,长春前进大街2699号 130012
【出 处】
:
2015年全国高分子学术论文报告会
【发表日期】
:
2015年期
【关键词】
:
设计及制作
光波导器件
含氟
碳酸
酯类
负性光刻胶
合成
有机聚合物材料
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有机聚合物材料由于其具有较高的电光耦合系数、良好的热力学性能、响应时间短、易加工、结构可设计及制作费用低等无机晶体无法比拟的优点,在光通讯、调制、传输器件等方面具有广阔的应用前景。
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