【摘 要】
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以氯氧化锆为锆源,以尿素为沉淀剂,通过掺杂晶型诱导剂—四方相氧化锆,采用均匀沉淀法制备了室温稳定的四方相纳米氧化锆粉体.研究了煅烧温度、升温速率及诱导剂添加量对氧化
【机 构】
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清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室,北京100084
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以氯氧化锆为锆源,以尿素为沉淀剂,通过掺杂晶型诱导剂—四方相氧化锆,采用均匀沉淀法制备了室温稳定的四方相纳米氧化锆粉体.研究了煅烧温度、升温速率及诱导剂添加量对氧化锆晶相及其光学性能的影响.结果表明,样品中四方相的含量随着氧化锆前驱体煅烧温度的升高而增加,其最佳煅烧温度在800℃.提高升温速率及诱导剂浓度,均可使四方相氧化锆的含量增加.通过优化工艺条件,获得了50nm氧化锆粒子,其光学带隙约为5.0eV,相结构对其光学性能影响很小.
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