超声电沉积制备Cu-In合金膜

来源 :2007全国粉末冶金学术及应用技术会议暨海峡两岸粉末冶金技术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：jyzhenghb

【摘要】

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采用超声电沉积方法在钼基底上制备了Cu/In双层膜,经过随后的热处理得到了致密的Cu-In合金薄膜.用SEM分析了超声对表面形貌的影响,用XRD研究了薄膜的相组成。结果表明:采用不

【作者】

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王延来聂洪波果世驹尚升杨永刚赵明倪沛然

【机构】

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北京科技大学,材料科学与工程学院,北京,100083

【出处】

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2007全国粉末冶金学术及应用技术会议暨海峡两岸粉末冶金技术研讨会

【发表日期】

：

2007年期

【关键词】

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超声电沉积电沉积制备双层膜过热处理合金薄膜电沉积方法致密工艺参数表面形貌相组成晶粒细合金膜转变基底调节比率

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采用超声电沉积方法在钼基底上制备了Cu/In双层膜,经过随后的热处理得到了致密的Cu-In合金薄膜.用SEM分析了超声对表面形貌的影响,用XRD研究了薄膜的相组成。结果表明:采用不同的电沉积工艺参数可以调节合金膜的Cu/In比率；超声电沉积可以得到晶粒细小、均匀致密的Cu、In薄膜；电沉积得到的双层膜为CuIn和Cu或In相,经过热处理后转变为CullIn9和Cu或In相.

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