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无掺杂HfO2纳米结构的磁学性能研究
【机 构】
：
厦门大学材料学院材料科学与工程系,厦门 361005
【出 处】
：
第十五届全国磁学和磁性材料会议
【发表日期】
：
2013年11期
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