低介电常数纳米多孔氧化硅薄膜

来源 :全国第三届纳米材料和技术应用会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:war3mx1017
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极大规模集成电路的发展对低介电常数绝缘介质薄膜提出了需求.本文介绍了低介电常数纳米多孔氧化硅薄膜的制备、结构和性能表征以及在ULSI中的应用前景.
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