Al/AlOx/Al超导隧道结制备

来源 :第十二届全国超导学术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:suzhenzsyf
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由于全铝结两字比特电路具有较长的消相干时间,用它来构建超导量子计算电路成为研究热点.我们研究了在高阻硅衬底上Al/AlOx/Al隧道结的制备技术.采用电子束蒸发技术原位制备Al/Al-AlOx/Al三层材料;采用光刻技术和不同的湿法刻蚀条件刻蚀出电路轮廓、隧道结结区;PECVD法生长SiO2绝缘层对超导隧道结进行保护;光刻掩膜后溅射一层铝膜,剥离出上电极引线.成功制备出了Al/AlOx/Al隧道结和量子比特样品.
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