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本文以聚四氟乙烯为靶材,在自制的装置中利用射频磁控溅射法在聚酰亚胺(PI)薄膜基底上沉积氟碳高分子膜.通过放电条件(压力、功率、时间、靶距)的优化,得到较均匀的纳米氟碳高分子粒子构成的薄膜.
聚酰亚胺基底上的氟碳高分子溅射沉积膜
【摘 要】
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本文以聚四氟乙烯为靶材,在自制的装置中利用射频磁控溅射法在聚酰亚胺(PI)薄膜基底上沉积氟碳高分子膜.通过放电条件(压力、功率、时间、靶距)的优化,得到较均匀的纳米氟碳
【机 构】
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青岛大学化工学院
【出 处】
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2003全国高分子学术论文报告会
【发表日期】
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2003年期
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