【摘 要】
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我们采用磁控溅射和后退火的方法在LaAlO(001)衬底上制备了高质量的超薄TlBaCaCuO薄膜.初步研究表明厚度在30nm以上的薄膜T可达101K以上,20nm厚的薄膜T仍然可以达到94K.XRD测
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我们采用磁控溅射和后退火的方法在LaAlO<,3>(001)衬底上制备了高质量的超薄Tl<,2>Ba<,2>CaCu<,2>O<,x>薄膜.初步研究表明厚度在30nm以上的薄膜T<,c>可达101K以上,20nm厚的薄膜T<,c>仍然可以达到94K.XRD测试结果表明50nm～60nm厚的薄膜都具有很纯的Tl-2212相结构,并具有很好的c轴取向.SEM照片表明薄膜具有均匀致密的表面形貌.
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