：添加剂DIO 已被认为是一种有效可靠且适用面较为广泛的活性层形貌优化手段，在公开发表的很多工作中都采用了这一工艺手段。最近，研究发现添加剂DIO 对活性层形貌相分离和垂直方向上的分布的作用是相悖的，即DIO 掺杂有利于形成较小尺寸的相分离，促进激子解离，同时却会使得给体材料向低功函数的阴极扩散，损害电荷传输。针对上述问题，我们提出了溶液法处理含有DIO 添加剂的活性层表面的方法来改善这种DIO 掺杂对活性层形貌相分离和给受体材料垂直分布上的相悖的作用。首先，利用飞行时间二次离子质谱法证明了溶液法处理掺有DIO 添加剂的活性层表面有利于改善给受体材料在垂直方向的分布，此外，研究发现溶液法处理掺有DIO 添加剂的活性层表面后形成了梯度三维体异质结结构。