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将聚对羟基苯乙烯(PHS)与甲醛在碱或酸催化下进行反应得到羟甲基化产物，此羟甲基很容易在酸催化下发生进一步的脱水缩合反应。因此可以和光产酸剂一起组成负性化学增幅型光刻胶，也可以和适当的染料一起组成光刻加工用的抗反射涂层。利用傅里叶红外光谱(FT-IR)、核磁共振氢谱(1HNMR)、热重分析(TGA)、示差扫描量热发(DSC)等表征了聚合物的结构和性能，并对其成像性能进行了初步评价。结果 表明：该聚合物具有良好的热稳定性，比较高的玻璃化转变温度，曝光成像后可以获得好的图形，并可以和适当的染料、产酸剂一起组成光刻加工用的抗反射涂层。