表面开口缺陷深度及其所生漏磁场的关系——磁粉探伤原理之二十九

来源 :2004年全国电磁(涡流)检测技术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:rwsonny
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由磁偶极子理论证明:表面开口缺陷引起的漏磁场H正比于(d/2-kδ),其中d是缺陷深度,而δ为一较小长度,它取决于工件和缺陷横截面的形状与尺寸,k是一个系数,它取决于缺陷侧壁上的磁荷分水岭,从而可以得出结论:当d很小时,H与d间近似为线性关系;而d增大时,它们之间则呈非线性关系。
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