现代真空获得设备的最新进展

来源 :广东省真空学会2010年年会暨广东省真空与低碳技术交流会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:Fish_FF1314
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  近年来,受半导体制造、液晶注入、太阳能光伏、电子器件、薄膜等新兴行业和化工、制药等传统行业的带动,真空应用的领域在不断地扩大,抽气工艺也越来越复杂,对真空泵的要求也越来越高。作为核心装备之一,真空泵的研制和生产越来越受到重视。以IC生产线的几种典型工艺为例,比如CVD和外延工艺、化合物半导体CVD工艺、刻蚀工艺、离子注入,要求真空泵工作温度高、长期运转稳定、噪声低、维护简单、清洁无油等;另一方面,应用于传统工艺的干泵,以石化行业为例,通常对真空泵在环保节能、耐腐蚀、全封闭防泄漏等方面,有较高的要求。其他场合如Load-lock,要求真空泵在十秒量级内达到中高真空,且反复充气、具备极高的可靠性。
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