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对纯铝进行了有无磁场条件下的阳极氧化实验。利用扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)研究了无磁场和IT~4T强磁场下氧化膜的成分和物相组成,初步分析了磁场强度、方向等参数对阳极氧化成膜过程的影响机理。同时,对不同条件下氧化膜层的耐磨性和耐蚀性进行了比照。实验结果表明:由非晶态结构和晶态结构组成的混晶阳极氧化膜层,随着外加磁场强度的增大,晶化趋势加强;致密度得到提高;膜层中的γ-Al2O3的(311)晶面择优取向程度增大;强磁场下获得的膜层耐磨性得到加强,而耐蚀性未下降。