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会议论文
一种基于GaAs工艺新型高速DDS器件性能分析
一种基于GaAs工艺新型高速DDS器件性能分析
来源 :2006全国第十一届微波集成电路与移动通信学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:html007
【摘 要】
:
本文在简要介绍当前DDS技术工作原理及发展状况的基础上,较为详细的论述了一种基于GaAs工艺的新型高速DDS器件,对其内部结构及噪声分布状况进行讨论,最后简述了其应用领域.
【作 者】
:
王冬海
【机 构】
:
北京时代新晨电子技术有限公司,北京,100080
【出 处】
:
2006全国第十一届微波集成电路与移动通信学术年会
【发表日期】
:
2006年9期
【关键词】
:
GaAs工艺
高速DDS
内部结构
噪声分布
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本文在简要介绍当前DDS技术工作原理及发展状况的基础上,较为详细的论述了一种基于GaAs工艺的新型高速DDS器件,对其内部结构及噪声分布状况进行讨论,最后简述了其应用领域.
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