【摘 要】
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为了研究含氚钛膜中的氚含量及分布，采用成像板技术对不同氚钛原子比的含氚钛膜进行了分析。研究发现，对处于单相区的含氚钛膜，其表面氚分布比较均匀，处于双相区的含氚钛膜表面氚分布呈现明显的不均匀性。为了测量含氚钛膜中的氚含量，采用不同含量的氚钛膜样品作为标样标定了氚含量和PSL的关系曲线，标样的氚含量由PVT方法测得。为了减少氚对成像板的污染，采用加麦拉膜和垫圈的方式放置成像板，将成像板上的氚污染降到了
【机 构】
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中国工程物理研究院院核物理与化学研究所,绵阳 621900 四川大学原子核科学技术研究所,成都 6
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为了研究含氚钛膜中的氚含量及分布，采用成像板技术对不同氚钛原子比的含氚钛膜进行了分析。研究发现，对处于单相区的含氚钛膜，其表面氚分布比较均匀，处于双相区的含氚钛膜表面氚分布呈现明显的不均匀性。为了测量含氚钛膜中的氚含量，采用不同含量的氚钛膜样品作为标样标定了氚含量和PSL的关系曲线，标样的氚含量由PVT方法测得。为了减少氚对成像板的污染，采用加麦拉膜和垫圈的方式放置成像板，将成像板上的氚污染降到了本底水平。为了研究含氚钛膜中氚的深度分布，采用蒙特卡罗模拟了不同深度处的氚在成像板中的能量沉积，对成像板技术用于氚的深度分布分析进行了初步的探索研究。
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