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横向型少数载流子注入控制的FET
横向型少数载流子注入控制的FET
来源 :第十一届全国半导体集成电路、硅材料学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xiaoyun1986
【摘 要】
:
该文第一次提出一各横向型的少数载流子注入控制的场效应晶体管(L-MICFET),并对其进行了二维数值分析及验证。分析结果表明,该结构在V〈,G〉=10V,V〈,D〉=4V时,电流密度比LDMOS大30℅以上,而关断时间与LDMOS相近。同时
【作 者】
:
刘海涛
陈启秀
【机 构】
:
大学功率器件研究所(杭州)
【出 处】
:
第十一届全国半导体集成电路、硅材料学术会议
【发表日期】
:
1999年期
【关键词】
:
横向型
载流子注入
二维数值分析
场效应晶体管
位置设置
结构
关断时间
密度比
验证
控制
电流
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该文第一次提出一各横向型的少数载流子注入控制的场效应晶体管(L-MICFET),并对其进行了二维数值分析及验证。分析结果表明,该结构在V〈,G〉=10V,V〈,D〉=4V时,电流密度比LDMOS大30℅以上,而关断时间与LDMOS相近。同时还对该结构中县浮P区的不同位置设置进行了考虑。
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