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该文计算了从金属Ｗ（１１０）面溅射的吸附铯原子离子产率对表面功函数的依赖。引入表面性质（如功函数）和吸附铯的性质（如电离势）等作为参数，用“分子中的双原子分子”（ＤＩＭ）法计算了气体－表面相互作用势。在功函数比铯、电离势低０．３６ｅＶ处，计算离子产率出现急剧降低。定性上与实验结果符合得相当好。
金属表面吸附铯溅射的近共振电荷转移:离子产率和表面功函数的关系的DIM计算
【摘 要】
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该文计算了从金属Ｗ（１１０）面溅射的吸附铯原子离子产率对表面功函数的依赖。引入表面性质（如功函数）和吸附铯的性质（如电离势）等作为参数，用“分子中的双原子分子”（ＤＩＭ）法计算了气体－表面相互作
【机 构】
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大学理论化学研究室(济南)
【出 处】
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第八届原子与分子物理全国学术会议
【发表日期】
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1996年期
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