碳材料具有广泛的用途,其应用常涉及到与其他材料的复合,而表面涂覆是最常用到的复合方法。传统的涂覆方法包含化学气相沉积、溅射、溶胶凝胶法、物理气相沉积等等。这些涂覆方法在涂层的厚度控制、质量、保形性等多方面都存在着局限性。原子层沉积(AtomicLayerDeposition,ALD)是一种高级的薄膜沉积技术。相对于传统工艺而言,ALD在沉积层的均匀性、保形性、重复性、厚度控制等方面都具有明显的优势。利用ALD可实现原子级别的厚度控制,并能够在复杂、多孔结构材料上沉积薄膜或者纳米粒子,对样品形貌无特殊要求。本报告主要介绍采用ALD对碳纳米材料(碳纳米管、碳纳米纤维、石墨烯等)进行表面涂覆的发展现状。包含利用ALD沉积金属、氧化物、高分子、有机-无机复合膜等对碳纳米材料表面涂覆复合的原理、影响沉积物结构形貌的因素等。并研究制备的复合材料在催化、力学、电磁波吸波等方面的应用。另外,还介绍利用ALD制备超薄碳纳米膜以及层数可控石墨烯的相关进展。