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用低能氧离子对电子束热蒸发方法沉积氧化锆薄膜进行了后处理.通过对其光学性质、抗激光辐照、弱吸收、表面粗糙度及缺陷密度等性质的表征,比较处理前后薄膜的各项性质,发现经离子后处理的氧化锆薄膜的折射率、消光系数、表面粗糙度、吸收率及缺陷密度等均有所降低,薄膜的激光损伤阈值较未处理样品有较大提高.X射线分析表明离子后处理的样品其微结构也发生微弱变化.对离子后处理技术对薄膜改性的机理进行了分析探讨。