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Oxygen vacancies effects on physical properties in multiferroic thin films
【机 构】
：
JiangsuKeyLaboratoryofThinFilms,SchoolofPhysicalScienceandTechnology,SoochowUniversity,Suzhou215006,
【出 处】
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第十四届全国电介质物理、材料与应用学术会议
【发表日期】
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2012年11期
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