【摘 要】
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本文用动电位伏安法和光电化学方法研究了植酸自组装单分子膜(SAMs)对白铜B30的缓蚀作用。结果表明,植酸分子易在白铜B30表而形成稳定的植酸SAMs,光电化学测试白铜B30表面膜
【机 构】
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上海电力学院能源与环境工程学院上海高校电力腐蚀控制与应用电化学重点实验室,上海,200090
【出 处】
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2008年全国腐蚀电化学及测试方法学术交流会
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本文用动电位伏安法和光电化学方法研究了植酸自组装单分子膜(SAMs)对白铜B30的缓蚀作用。结果表明,植酸分子易在白铜B30表而形成稳定的植酸SAMs,光电化学测试白铜B30表面膜显示p-型光响应,光响应来自电极表面的Cu2O层,植酸SAMs的形成使其光响应明显减弱,有良好的缓蚀效果,这与交流阻抗得到的结论一致,同时微分电容曲线表明植酸SAMs的形成改变了电极双电层结构,使得电容值减小,其缓蚀机理为化学吸附过程。
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