离子注入表面改性的俄歇电子谱研究

来源 :中国物理学会第五届全国表面与界面物理学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zm_627
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该文给出了离子注入样品用俄歇电子谱分析得到的点、面及深度剖面的结果,这些结果对了解离子注入情况,注入条件对表面力学和腐蚀学性能的改善都是十分有益的。文中提出了一种用AES分析离子表面改性层时深度定标的方法,并用最小二乘拟合法拟合了注入层中元素俄歇信号随溅射时间的变化曲线,在此基础上就注入层中元素的相对浓度分布进行了定量计算,在计算中考虑了注入层中浓度梯度的存在和基体效应、计算给出的结果与灵敏度因子法结果不同。(本刊录)
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