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用离子束辅助磁控溅射和离子束溅射共沉积的方法分别在TiN、CrN扩散阻挡层上沉积了Cu-Cr合金膜.用滚动接触疲劳实验评价结合强度,结果发现:扩散阻挡层可明显提高结合强度;CrN上的Cu-Cr膜的结合强度最高;高能离子轰击得到的Cu-Cr合金膜具有更宽的过渡层而具有更高的结合强度.
扩散阻挡层与离子束轰击能量对Cu-Cr合金膜结合强度的影响
【摘 要】
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用离子束辅助磁控溅射和离子束溅射共沉积的方法分别在TiN、CrN扩散阻挡层上沉积了Cu-Cr合金膜.用滚动接触疲劳实验评价结合强度,结果发现:扩散阻挡层可明显提高结合强度
【机 构】
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西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室,西安,710049西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,西安,710049兰州交通大学光电技术与智能控制教育部重点实验室,兰州,730070
【出 处】
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TFC'2005全国薄膜技术学术研讨会
【发表日期】
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2005年9期
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