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苯基POSS修饰纳米MoS2/PMMA复合材料的制备及性能研究
苯基POSS修饰纳米MoS2/PMMA复合材料的制备及性能研究
来源 :中国化学会第30届学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:Fukuki
【摘 要】
:
纳米MoS2与石墨烯具有类似的二维平面结构,拥有优异的力学,电学和非线性光学性能,将纳米MoS2掺杂进聚合物基体中可以制备得到具有高性能的复合材料。然而,纯纳米MoS2片层与聚
【作 者】
:
廖峭波
邓国庆
袭锴
【机 构】
:
南京大学化学化工学院,江苏省南京市栖霞区仙林大道163号,210023
【出 处】
:
中国化学会第30届学术年会
【发表日期】
:
2016年期
【关键词】
:
苯基
POSS
纳米
MoS2
PMMA复合材料
制备
非线性光学性能
聚合物基体
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纳米MoS2与石墨烯具有类似的二维平面结构,拥有优异的力学,电学和非线性光学性能,将纳米MoS2掺杂进聚合物基体中可以制备得到具有高性能的复合材料。然而,纯纳米MoS2片层与聚合物基底的相互作用不强,这使得掺杂量较高时复合材料的性能才能得到较大提高。
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