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以邻苯二胺为单体，Cu2+-EDTA螯合物为模板，通过电化学循环伏安法在石英微天平金电极上制备了分子印迹聚合物薄膜。利用石英微天平，紫外可见光谱及X射线光电子能谱对聚合物进行了表征。石英微天平和紫外可见光谱表明了聚合物薄膜的形成，X射线光电子能谱证明了金属螫合物被嵌埋在聚合物中。
电化学制备分子印迹聚合物及其表征
【摘 要】
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以邻苯二胺为单体，Cu2+-EDTA螯合物为模板，通过电化学循环伏安法在石英微天平金电极上制备了分子印迹聚合物薄膜。利用石英微天平，紫外可见光谱及X射线光电子能谱对聚合物进行了
【机 构】
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苏州大学材料与化学化工学部,江苏 苏州 215123 苏州纳米技术与纳米仿生研究所,江苏 苏州 215123
【出 处】
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第十六届全国分子光谱学学术会议
【发表日期】
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2010年期
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