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本文根据闪电探测的需要，利用Anderson局域的概念，以SiO2和Ta2O5为介质材料，设计出了带通位置为闪电特征峰（777.4nm）的超窄带通滤光片。该滤光片的半峰宽、透过率和高反区域分别为97﹪、0.7nm和670~950nm。统计结果显示，该滤光片的峰位、半峰宽和透过率受每层膜厚随机涨落的影响较小，当膜系每层厚度出现±2.5％的随机涨落时，滤光片依然保持较好的性能。通过ZZSX-800 型真空镀膜机对所设计的膜系进行实际镀制，获得了半峰宽为1.9nm、透过率为73.6％的超窄带通滤光片。