【摘 要】
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采用直流磁控溅射的方法制备了一系列(CoPt/Ag)多层膜,然后在不同温度下进行了退火处理,并对其结构和磁性做了初步的表征,研究了Ag的含量以及薄膜中每一单元厚度与总厚度对退
【机 构】
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湖北大学物理学与电子技术学院(武汉)
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采用直流磁控溅射的方法制备了一系列(CoPt/Ag)<,n>多层膜,然后在不同温度下进行了退火处理,并对其结构和磁性做了初步的表征,研究了Ag的含量以及薄膜中每一单元厚度与总厚度对退火后薄膜的结构以及磁性能的影响.结果表明,膜厚较薄时(大约20nm)有利于薄膜沿(001)取向生长,Ag的加入不但抑制CoPt颗粒的长大还可以诱导薄膜的(001)取向,使退火后的薄膜在垂直于膜面方向上的矫顽力大大增强.制备的薄膜经600℃退火后其XRD图已经显示了明显的(001)取向,垂直于膜面方向上的矫顽力为5.01kA/m,并且磁滞回线具有很好的矩形度,剩磁比S为0.92.
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