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为了获得实验所需要的Ｚｒ衰减膜，他们用直流磁控溅射的方法对Ｚｒ衰减膜的制备工艺进行了探索，用自制的α测厚仪和α－ｓｔｅｐ２００台阶仪测量了Ｚｒ膜的质量厚度和膜厚均匀性，用Ａｕｇｅｒ电子能谱（ＡＥＳ）对Ｚｒ衰减膜表面氧化及其随时间的变化进行了测定。
自支撑软X光激光Zr衰减膜的研制和测量
【摘 要】
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为了获得实验所需要的Ｚｒ衰减膜，他们用直流磁控溅射的方法对Ｚｒ衰减膜的制备工艺进行了探索，用自制的α测厚仪和α－ｓｔｅｐ２００台阶仪测量了Ｚｒ膜的质量厚度和膜厚均匀性，用Ａｕｇｅｒ电子能谱（ＡＥＳ）对Ｚｒ衰减膜表面氧化
【机 构】
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大学玻耳固体物理研究所
【出 处】
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第四届全国激光科学技术青年学术交流会
【发表日期】
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1997年期
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