【摘 要】
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采用化学刻蚀法在铝合金基体上构筑出不同类型的微纳米结构，并分别使用全氟癸基三乙氧基硅烷、十八烷基三乙氧基硅烷以及3-氨丙基三乙氧基硅烷进行硅烷化处理，制备出具有不同润湿性的表面。用扫描电子显微镜(SEM)和床-光电子能谱(XPS)分别对所制备表面的形貌和组分进行了分析。同时，考察了不同刻蚀时间对于表面疏水及亲水效果的影响，并且对比了三种不同官能团对于表面性能的影响。最后，对所制备的表面的摩擦性能和
【机 构】
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中国科学院宁波材料技术与工程研究所,浙江宁波 315201;中北大学,山西太原 030000 中国
【出 处】
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第十届全国表面工程大会暨第六届全国青年表面工程论坛
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采用化学刻蚀法在铝合金基体上构筑出不同类型的微纳米结构，并分别使用全氟癸基三乙氧基硅烷、十八烷基三乙氧基硅烷以及3-氨丙基三乙氧基硅烷进行硅烷化处理，制备出具有不同润湿性的表面。用扫描电子显微镜(SEM)和床-光电子能谱(XPS)分别对所制备表面的形貌和组分进行了分析。同时，考察了不同刻蚀时间对于表面疏水及亲水效果的影响，并且对比了三种不同官能团对于表面性能的影响。最后，对所制备的表面的摩擦性能和抗腐蚀性能进行了表征。结果表明：HCL体积分数为40％，刻蚀时间2min是最佳的制备条件，疏水基团化学修饰后的表面耐蚀性能远优于亲水基团的耐蚀性能。
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