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本文用GEN-ⅡMBE设备生长Al<,x>Ga<,1-x>As/GaAs调制掺杂结构材料,得到了高质量的材料,并用范德堡法、电化学C-V法和PL谱法研究了该材料的性能.
MBE制备Al<,x>Ga<,1-x>As/GaAs调制掺杂异质结构
【摘 要】
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本文用GEN-ⅡMBE设备生长AlGaAs/GaAs调制掺杂结构材料,得到了高质量的材料,并用范德堡法、电化学C-V法和PL谱法研究了该材料的性能.
【机 构】
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南京电子器件研究所(江苏南京)
【出 处】
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第八届全国固体薄膜学术会议
【发表日期】
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2002年期
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