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理论上可知二次曲面顶点曲率中心附近具有特定的球差剪切干涉图。据此编制的ZWC—2程序可根据光学设计给定的二次曲面结构参数,通过微机计算其理论横向剪切干涉图,并且自动绘制出理论图形。制作人员即可以此图形作为检验样板,与所加工的二次曲面实际的横向剪切干涉图形相比较,从而获知接近理论剪切干涉图的程度,以便采取措施,使所加工的二次曲面尽快向理论设计逼近。该文介绍了ZWC—2程序的数理模型、特点、使用说明,框图以及使用实例。(本刊录)