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针对平面研磨抛光过程，由于磨具与工件间不同的相对运动形式，所形成加工轨迹不同的现象，介绍了研磨抛光轨迹均匀性的评价方法，详细阐述了单面和双面研磨抛光轨迹的研究进展，并指出了当前研磨抛光轨迹研究存在的不足以及研磨抛光轨迹研究的发展趋势。
平面磨抛轨迹研究现状与进展
【摘 要】
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针对平面研磨抛光过程，由于磨具与工件间不同的相对运动形式，所形成加工轨迹不同的现象，介绍了研磨抛光轨迹均匀性的评价方法，详细阐述了单面和双面研磨抛光轨迹的研究进展，并
【机 构】
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华侨大学机电及自动化学院
【出 处】
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第八届中国金刚石相关材料及应用学术研讨会
【发表日期】
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2014年期
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