【摘 要】
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采用电子束蒸发技术制备碳化硼薄膜，利用X射线衍射(XRD)分析了薄膜的结构，测量了薄膜的X射线光电子能谱(XPS)，并利用原子力显微镜(AFM)对薄膜进行表面分析.XRD结果表明：薄膜
【机 构】
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四川大学技术教育部重点实验室，四川成都 610064
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采用电子束蒸发技术制备碳化硼薄膜，利用X射线衍射(XRD)分析了薄膜的结构，测量了薄膜的X射线光电子能谱(XPS)，并利用原子力显微镜(AFM)对薄膜进行表面分析.XRD结果表明：薄膜的结晶性随着衬底温度的升高逐渐转好，在较低的衬底温度下制备出多晶碳化硼薄膜。XPS分析得到了碳化硼薄膜表面的化学成分和结构特性，其主要成分为B4C.AFM结果表明，薄膜表面光滑平整、均匀致密，随着衬底温度的升高薄膜均方根(RMS)粗糙度逐渐增大。
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