原子力显微镜刻蚀技术在功能高分子体系的应用

来源 :中国化学会第29届学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:raysparkle
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  原子力显微镜(AFM)不仅是一种可以对表面形貌及物理性质进行高分辨表征的技术,而且利用其纳米尺度的针尖对样品表面进行机械刻蚀,将图形转移到样品表面,因此也是一种可以对表面进行改性进而实现结构化的强有效的工具。在这里,我们将概述我们利用原子力探针对功能有机高分子,包括导电高分子[1-2]、有机高分子刷[3]以及用在湿法/干法刻蚀中的高分子掩膜板(光刻胶)等材料,进行结构化的一些结果。利用 AFM 针尖刻蚀导电高分子,我们不仅得到了较好的分辨率达到 50nm 的图案结构,而且这些图案化的导电高分子结构可以作为电极直接用于有机半导体器件(有机场效应晶体管 OFET)中,器件展示出了较高的性能,为实现全有机电极提供了重要的实验基础。此外,这种方法也可扩展至聚苯乙烯或聚甲基丙烯酸甲酯等其他非导电高分子材料,可形成有序模板结构,在蛋白选择性吸附、纳米材料有序组装等方面得到了广泛应用。
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