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用于微细加工中的厚光刻胶的曝光性能研究
用于微细加工中的厚光刻胶的曝光性能研究
来源 :上海市真空学会第七届学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:laotzu123
【摘 要】
:
本文的重点是研究厚光刻肢光刻图形之分辨率、边缘轮廓角与光刻肢厚度及曝光间隙之间的关系,并对实验研究结果作了较为详细的分析和总结.
【作 者】
:
朱军
赵小林
杨春生
【机 构】
:
上海交通大学信息存储研究中心,200030
【出 处】
:
上海市真空学会第七届学术年会
【发表日期】
:
2000年期
【关键词】
:
加工中
厚光刻胶
曝光间隙
边缘轮廓角
实验研究
光刻图形
分辨率
厚度
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本文的重点是研究厚光刻肢光刻图形之分辨率、边缘轮廓角与光刻肢厚度及曝光间隙之间的关系,并对实验研究结果作了较为详细的分析和总结.
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