【摘 要】
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为改善Ni-5at.％W合金基带表面质量,本文对基带进行电化学抛光处理,利用原子力显微镜以及扫描电子显微镜对样品表面形貌进行表征,分析了电化学抛光条件对样品粗糙度的影响.结果表明,采用硫酸含量60％、水含量40％的抛光液,室温下抛光效果较好.抛光后基带表面均方根粗糙度可降低到5nm以下.
【机 构】
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东北大学,辽宁 沈阳 110004 西北有色金属研究院,陕西 西安 710016 西北有色金属研究
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为改善Ni-5at.％W合金基带表面质量,本文对基带进行电化学抛光处理,利用原子力显微镜以及扫描电子显微镜对样品表面形貌进行表征,分析了电化学抛光条件对样品粗糙度的影响.结果表明,采用硫酸含量60％、水含量40％的抛光液,室温下抛光效果较好.抛光后基带表面均方根粗糙度可降低到5nm以下.
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