化学镀Ni-P合金耐蚀性的电化学研究

来源 :2004年全国电子电镀学术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:jiangxiaohui
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本文在乙酸盐缓冲体系中通过改变柠檬酸的浓度得到不同P含量的化学镀Ni-P合金镀层,应用Tafel曲线研究了不同P含量的Ni-P镀层在3%NaCl、1.0mol/LH2SO4、1.0mol/LNaOH溶液中的腐蚀电化学行为.结果表明在中性NaCl和H2SO4溶液中,高磷镀层(P12.0wt%)的腐蚀电位比中磷镀层(P8.5wt%)的腐蚀电位更正,而在NaOH溶液中,高磷镀层的腐蚀电位比中磷镀层的更负,但在三种腐蚀介质中,高磷镀层的阳极腐蚀电流密度都低于或接近于中磷镀层.
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