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用于带状注约束的PCM聚焦结构的设计与测试
用于带状注约束的PCM聚焦结构的设计与测试
来源 :中国电子学会真空电子学分会第十七届学术年会暨军用微波管研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ialyialyialy
【摘 要】
:
本文讨论了用于约束带状注束流的PCM聚焦结构的设计方法,并简要介绍了所建立的一套对实际结构中磁场分布进行测量的自动测试系统,最后针对加工出的实际结构将模拟计算值与实验
【作 者】
:
赵鼎
陆熙
阮存军
【机 构】
:
中国科学院电子学研究所,中国科学院高功率微波源与技术重点实验室,北京,100190
【出 处】
:
中国电子学会真空电子学分会第十七届学术年会暨军用微波管研讨会
【发表日期】
:
2009年期
【关键词】
:
带状
聚焦结构
设计方法
自动测试系统
磁场分布
测量值
一致性
计算值
束流
实验
模拟
加工
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本文讨论了用于约束带状注束流的PCM聚焦结构的设计方法,并简要介绍了所建立的一套对实际结构中磁场分布进行测量的自动测试系统,最后针对加工出的实际结构将模拟计算值与实验测量值进行了比较,结果表明二者具有较好的一致性。
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