【摘 要】
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电形成工艺是制造表面传导电子发射显示器(SED)的关键步骤,因此研究电形成电压波形对SED电学特性的影响具有重要意义。本文比较了器件电压分别为幅值渐增波形和等幅波形时SED阴极的电形成过程,发现采用渐增波形时SED阴极的电形成是逐步完成的,而采用等幅波形时SED阴极的电形成是瞬间完成的。两类波形下,开始电形成时的器件电压均为14V时,结束电形成时的器件电压均为17V。本文还研究了采用4种不同波形进
【机 构】
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西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室,710049,西安
【出 处】
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中国电子学会真空电子学分会第十七届学术年会暨军用微波管研讨会
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电形成工艺是制造表面传导电子发射显示器(SED)的关键步骤,因此研究电形成电压波形对SED电学特性的影响具有重要意义。本文比较了器件电压分别为幅值渐增波形和等幅波形时SED阴极的电形成过程,发现采用渐增波形时SED阴极的电形成是逐步完成的,而采用等幅波形时SED阴极的电形成是瞬间完成的。两类波形下,开始电形成时的器件电压均为14V时,结束电形成时的器件电压均为17V。本文还研究了采用4种不同波形进行电形成的SED的发射特性。结果表明当器件电压达到20V时,采用渐增矩形波进行电形成的SED发射电流是采用其他波形进行电形成的SED的2倍,这说明采用渐增矩形波对SED阴极进行电形成更有利于电子发射。在测试电子发射特性的过程中还发现当器件电压高于11V时,采用渐增矩形波进行电形成的SED阴极电阻明显小于采用其它电压波形进行电形成的SED阴极,当器件电压达到20V时这种差别甚至高达10kΩ左右。
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