【摘 要】
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以溶液化学路线制备半导体薄膜,例如水热/溶剂热晶化、电化学沉积、化学浴沉积等,代替传统的真空蒸发等气相制备路线,有利于降低光电薄膜制备成本.水热/溶剂热晶化法在氧化物
【机 构】
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中国科学院大连化学物理研究所催化基础国家重点实验室,辽宁,大连,116023
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以溶液化学路线制备半导体薄膜,例如水热/溶剂热晶化、电化学沉积、化学浴沉积等,代替传统的真空蒸发等气相制备路线,有利于降低光电薄膜制备成本.水热/溶剂热晶化法在氧化物和分子筛薄膜制备过程中已得到了比较充分的研究,但在硫属化合物薄膜制备中应用的还比较少.本文用化学浴沉积法制备的ZnS/Glass薄膜作为种晶,在水热条件下外延生长CdS-ZnS复合薄膜,分别用X-射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、紫外-可见吸收光谱等分析薄膜材料,结果发现水热法可以得到均匀致密的CdS-ZnS半导体复合薄膜.该类材料可以在光催化分解水制氢、光伏电池窗口层等领域中得到应用.本文对此进行了介绍.
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