【摘 要】
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稀土酞菁化合物因其良好的非线性光学性能和化学、热稳定性已经广泛应用于化学传感器和光电子器件等领域。目前酞菁类有机化合物薄膜主要通过真空沉积、自组装、LB 膜技术和旋涂成膜等方法制备，但由于以上方法都存在固有缺陷，因而难以大规模产业化。而电化学沉积法以其过程简单、成本低、耗时短及操作可控性好而引起了我们的关注。本文通过电化学方法在ITO 基板上沉积了一维酞菁铒纳米线和微米线，并通过SEM 和Uv-V
【机 构】
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浙江大学高分子系，硅国家重点实验室，杭州,310027
【出 处】
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2005年全国高分子学术论文报告会
论文部分内容阅读
稀土酞菁化合物因其良好的非线性光学性能和化学、热稳定性已经广泛应用于化学传感器和光电子器件等领域。目前酞菁类有机化合物薄膜主要通过真空沉积、自组装、LB 膜技术和旋涂成膜等方法制备，但由于以上方法都存在固有缺陷，因而难以大规模产业化。而电化学沉积法以其过程简单、成本低、耗时短及操作可控性好而引起了我们的关注。
本文通过电化学方法在ITO 基板上沉积了一维酞菁铒纳米线和微米线，并通过SEM 和Uv-Vis 对其形貌和光学性能进行了表征，还进一步研究了沉积时间、沉积电压、沉积液浓度和热处理对薄膜结构和形貌的影响。
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