工艺条件对磁控溅射TiO<,2>薄膜结构和光催化特性的影响

来源 :2004年中国材料研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:aizhuan
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作为新型环境净化材料,TiO<,2>在污水处理、空气净化等方面有着广泛的应用.本文采用TiO<,2>陶瓷靶及射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备出了一系列透明TiO<,2>薄膜,研究了衬底温度和溅射功率对TiO<,2>薄膜结构和光催化降解有机污染物特性的影响.利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)对其结构进行了表征,得到了TiO<,2>薄膜的相变规律.进一步利用分光光度计对其光催化降解罗丹明B溶液的效率进行了测量,结果表明:随着衬底温度的升高和溅射功率的增加,降解率先增加后减小,在550℃和130W表现出最佳的光催化效果.
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