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会议论文
用等离子体-CVD法沉积TiN的研究
用等离子体-CVD法沉积TiN的研究
来源 :中国金属学会第九届钛及钛合金学术交流会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:rabbitwangli
【摘 要】
:
在自行设计研制的等离子体化学气相沉积炉内,对硬质合金材料进行沉积TiN的试验。研究了TiN涂层的结构、成份、硬度及形貌等,并分析了工艺参数对这些问题的影响。
【作 者】
:
谢红希
戴达煌
【机 构】
:
有色金属研究院
【出 处】
:
中国金属学会第九届钛及钛合金学术交流会
【发表日期】
:
1996年期
【关键词】
:
化学气相沉积炉
硬质合金材料
设计研制
工艺参数
等离子体
硬度
涂层
试验
结构
成份
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在自行设计研制的等离子体化学气相沉积炉内,对硬质合金材料进行沉积TiN的试验。研究了TiN涂层的结构、成份、硬度及形貌等,并分析了工艺参数对这些问题的影响。
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