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采用磁控溅对方法，在不同溅射气压下制备了具有巨磁电阻效应的Ni 20Fe20/cu金属多层膜。室温下，饱和磁电阻值随着Cu层厚叵的增加呈振荡变化，对应于溅射气压为0.25Pa的样品，在cu层厚度tcu＝10A、22A时，磁电阻出现两个峰值·磁电阻分别为194和11.6，溅射气压为0.45Pa的样品，磁电阻分别为11.2℅和1℅。采用同步辐射光源，在cuK吸收边能量位置（8.989KEV）对不同溅射气压下制备的多层膜样品做了X光小角衍射和漫散射实验，标定了界面粗糙度。结果表明多层膜界面的粗糙度对磁电阻有明显的影响。