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会议论文
光电器件用硅单晶片腐蚀技术研究
光电器件用硅单晶片腐蚀技术研究
来源 :第十二届全国半导体集成电路硅材料学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xcumuhe
【摘 要】
:
本文通过对化学腐蚀的机理进行分析,提出了一种新型湿法腐蚀方法二步腐蚀法.
【作 者】
:
杨洪星
赵权
刘春香
宋晶
谢俊启
【机 构】
:
信息产业部电子第四十六研究所(天津)
【出 处】
:
第十二届全国半导体集成电路硅材料学术会议
【发表日期】
:
2001年期
【关键词】
:
光电器件
硅单晶片
化学腐蚀
腐蚀方法
腐蚀法
湿法
机理
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本文通过对化学腐蚀的机理进行分析,提出了一种新型湿法腐蚀方法二步腐蚀法.
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