钕铁硼（NdFeB）是一种磁学性能优异的稀土永磁材料,现代科学技术与信息产业正向集成化、轻量化、智能化方向发展,新能源和节能环保等行业对稀土永磁材料的性能需求越来越高,这对传统磁钢制造行业是个巨大的挑战,同时,对钕铁硼永磁材料的耐腐蚀性能提出了更高的要求。铝是钕铁硼永磁材料真空镀膜首选的金属防护涂层之一。首先,铝的腐蚀电位相对较低,钕铁硼永磁材料表面镀铝后,铝镀层作为牺牲阳极先被腐蚀;其次,铝能在合适的温度下生成致密的保护性氧化膜Al₂O₃,起到保护基体的作用。再者,铝资源丰富、价格低廉,可以大规模生产应用。真空镀铝的方法主要有磁控溅射和热蒸发技术,国内大多采用磁控溅射技术在钕铁硼材料表面制备Al膜和Al/Al₂O₃、AlN/A1等多层膜,由于离子辅助热蒸发镀铝设备基本被美国和日本垄断,目前国内几乎没有离子辅助蒸发镀铝的设备。而我国的真空蒸发镀铝涂层集中在用于食品包装、电子和装饰用等产品上,对于钕铁硼表面离子辅助真空蒸发镀铝的研究及应用鲜有报道。本论文采用自主研究开发的离子辅助真空蒸发镀膜装备,分别研究了蒸发舟电流和沉积温度对铝膜层结构的影响。研究表明,随着蒸发舟电流的增加,蒸发铝膜层的厚度增加,沉积速率升高,当蒸发舟电流为2450A时,铝膜层的沉积速率最快,达到22.2μm/h。随着沉积温度的增加,钕铁硼表面所制备的铝膜层缺陷减少,膜层趋于平整致密化,沉积温度过高会造成膜层与工装接触时引起刮伤等缺陷,从而破坏了钕铁硼表面铝膜的完整性。