【摘 要】
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介绍了一种400 V/3.1 A抗总剂量效应的VDMOS产品的设计,包括纵向和横向结构设计,总剂量效应及加固技术。主要对栅氧化层进行加固,高质量和较薄的栅氧化层可以有效抗总剂量辐
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介绍了一种400 V/3.1 A抗总剂量效应的VDMOS产品的设计,包括纵向和横向结构设计,总剂量效应及加固技术。主要对栅氧化层进行加固,高质量和较薄的栅氧化层可以有效抗总剂量辐射。采用这种技术设计的VDMOS产品达到了抗总剂量100 krad/Si的水平,辐照后产品阈值电压和漏源漏电流变化很小,满足使用要求。
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