【摘 要】
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SiO2气凝胶是一种轻质纳米多孔材料,其表面硅羟基使之易吸潮从而导致开裂并降低其各项性能。本文以三甲基氯硅烷（TMCS）以及二甲基二乙氧基硅烷（DMMOS）为表面修饰剂,对SiO2凝胶进
【机 构】
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同济大学波耳固体物理研究所; 上海化工研究院;
【基金项目】
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国家自然科学基金(59802007,69978017);上海市启明星跟踪基金(98QME1406)
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SiO2气凝胶是一种轻质纳米多孔材料,其表面硅羟基使之易吸潮从而导致开裂并降低其各项性能。本文以三甲基氯硅烷（TMCS）以及二甲基二乙氧基硅烷（DMMOS）为表面修饰剂,对SiO2凝胶进行表面修饰,最后经超临界干燥过程制备出表面修饰型SiO2气凝胶。用FT-IR、29SiNMR、SEM以及孔径分布测试仪对表面修饰前后SiO2作气凝胶表面基因及其微结构进行了研究,结果表明:表面修饰后SiO2气凝胶孔洞内表面的硅羟基被硅甲基所取代,DMMOS的修饰效果比TMCS好;二氧化硅气凝胶孔洞由修饰前的23.1nm减小到18.2nm,比表面积由修饰前的477m2·g-1增加到563m2·g-1,骨架颗粒比修饰前略大;气凝胶经表面修饰后的饱和水蒸汽吸附量由未修饰的4%（质量分数）减少到0.12%。
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